IC CHINA 2019 展览会刚于2019年9月3-5日在上海浦东新国际博览中心(SNIEC) 举行，

利满科技今次参展在 N4-16号展位，主要是介产品有：

1.）德國Micro Resist Technology (MRT) 優質的正负光刻胶, 有电子束(E-Beam ) 光刻胶、剥离胶 (Lift off Resist) 、灰阶 (Greyscale) 及激光直寫(Direct Write Laser) 光刻胶,

2.）美國DisChem 公司的光刻化學品 - SurPass增粘剂 (Adhesion Promoter) 及DisCharge 电子束/SEM测量的除电荷积聚剂(Anti Charging Agent),

3.）德國GenISys 公司LAB 光学光刻仿真软件，只要输入相关数据后可作光刻图型仿真，效果比美繁复的现实工艺，省人力物力/时间和金钱, ProSEM – SEM图像测量分析软件, 精准/测量结果的一致性、没有人为疏忽或避免主观判断的介入等影响和争议

4.）曰本Litho Tech Japan (LTJ) 的光刻胶顕影分析仪器RDA (Photoresist Development Analysis Instrument)。RDA分析仪器不祇限用于研发及生产，而且还对应光刻胶的质量管理、优化光刻胶使用工艺条件、对应客户投诉等，应用广泛及Eth Scanner LT-Escan-1500 系统。

是次展览会相当成功，场内人流不绝，众多厂商留览过本司展位，对展出的產品甚有兴趣，查询不断。