第八届微光刻技术交流会暨微光刻分委会国家标准专家讨论会，已于2018年10月9至12日在上海交通大学举办并完满结束，利满科技和日本LTJ 与及德国GenISys 有幸携手合作出席并共同演示相关产品，以下为部分産品报告简述。

1.) 德国GenISys 专家～陈利奇先生 介绍相关软件如BEAMER, TRACER, LAB, ProSEM 等的相关功能与更新。

2.) 日本 LTJ公司总裁 南洋一 先生， 与会展示平板显示用黑矩陣光刻胶BLACK MATRIX用等光刻胶最新化学反应曝光显影相关分析报告。

3.) 利满科技～Mr.Raymond 李总 展示德国 Micro Resist Technology GmbH 一系列光刻胶及纳米压印胶等産品作介绍。

4.) 日本LTJ 总裁南洋一先生与我们一同拜访上海ICRD 半导体研发中心，作LTJ 光刻胶分析仪器设备釆购洽谈，和德国GenISys 相关软件介绍。