第九届长春微光刻技术交流会暨微光刻分委会国家标准专家讨论会，已于2019年9月8至12日在中科院长春光机所学术交流中心举办并完满结束，利满科技和日本Litho Tech Japan (LTJ) , 德国GenISys 及Micro Resist Technology (MRT) 有幸赞助及携手合作出席并共同演示相关产品，以下为部分产品报告简述。

1.) 德国GenISys 专家～陈利奇先生 介绍相关软件如BEAMER, TRACER & LAB(光学光刻仿真软件)的相关功能与更新 & ProSEM (SEM图像自动检测分析软件的相关功能与更新。

2.) 日本 LTJ公司委托陳利奇先生分享，光刻胶顕影分析仪器RDA (Photoresist Development Analysis Instrument)。RDA分析仪器不祇限用于研发及生产，而且还对应光刻胶的质量管理、优化光刻胶使用工艺条件、对应客户投诉等。

3.) 利满科技～Mr. Raymond 李总 展示德国 Micro Resist Technology GmbH 一系列光刻胶及纳米压印胶等产品作介绍。