UV 光阻树脂的应用 (UV Resist Resin)

近年,LED行业的技术要求越来越高,其中外延片的GaN生长(Epitaxial Growth)至关重要,对衬底的选择须要有利于GaN的优质生长,经过技术和工业生产的考虑大致有了共识,蓝宝石(Sapphire)是目前相当普遍采用的材料,它虽然还有不少缺点,例如切割打磨困难和晶体位错等问题,但将蓝宝石表面图形化后作为衬底,经过实践证明对保存光的产出有很大帮助,所以图形化蓝宝石衬底(Patterned Sapphire Substrate PSS)在目前LED工业生产链中占的席位越趋重要。

一直以来,PSS的生产以光蚀刻(Photolithography)工艺较为普遍,其它的如干涉式镭射(Phased Interference Laser)技术难掌握至今未见普及。 PSS图形转移以蛾眼为主,为着配合设计要求,图形由微米级渐转为纳米级(NPSS),加上光蚀刻的成本与稳定性未能满足业界,纳米压印的低成本相比就非常有吸引力。














适合特高的长宽比(High Aspect Ratio)




规格