第七届微光刻技术研讨会-日本LTJ 及 德国GenISys 公司有参与分享
2017年10月26日

日本 Litho Tech Japan Ltd (LTJ)及德国GenISys GmbH公司在2017年10月26日, 全国半导体设备和材料标准化技术委员会-微光刻分技术委员会 - 在中国江苏省常州市举行的第七届微光刻技术研讨会上分享最新微光分刻技术及设备.


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(A). LTJ 的 Minami 先生与利满科技的李诚辉先生在第七届微光刻技术研讨会会埸外拍照留念.




(B). 第七届微光刻技术研讨会的开幕.




(C). 日本 Litho Tech Japan(LTJ) 及 德国 GenISys GmbH 是研讨会的演讲嘉宾.





(D). 合照:(最左: GenISys的 Nit 先生, 左中: LTJ 的 Minami 先生, 右中: 陈宝钦教授, 最右: 利满洋行的李诚辉先生)