为了迎接国家在半导体光刻胶及LED行业未来重点的规划发展
2015年04月15日

为了迎接国家在半导体光刻胶及LED行业未来重点的规划发展,本司本着与时并进的理念及作风,最近引进的先进尖端材料和科研及生产设备产品,都是以为了设合以上行业的发展路向所需的.本司销售丹麦NIL Technology ApS (NILT) 纳米压印设备、日本丸善化学Chemiway (Maruzen Petrochemica Co., Ltd.)UV光阻树脂、德国Temicon Micronano Solutions模具及日本Litho Tech Japan (LTJ)光刻显像分析仪等...亦会参与大型推广活动及宣传工作,例如安排参与大学及公司科研机构的研讨会作交流,与此同时,本司亦分别在去年十月及今年十月都有参加在苏州举行非常专业的 CHInano展览,今年三月份在上海举行的Semicon China 2015及明年三月份在上海举行的 Semicon China 2016展览会,以上一连串的推广活动都是希望藉此机会给予从事以上行内的专业人员加深对本司产品的了解及认识.


在此,我们希望能有机会在今年十月份的 CHInano 2015及明年三月份的 Semicon China 2016再次与您们会面交流.