致各界朋友：

您们好！我已和LITHO TECH JAPAN (LTJ)在不同的项目紧密合作超过20年。LTJ曾是我的电脑软件PROLITH亚洲代理，我亦曾是他们RDA分析仪在美国的代理。我们的科研合作带给大家多份关于光刻胶特征分析和改造其性能参数的科学报告。LTJ的光蚀刻技术及产品沉淀了深厚的经验， 它有效地改良了半导体工业中的光蚀刻工艺。RDA系列是最令LTJ觉得骄傲的代表作。它一手帮世界最有名的光蚀刻制造商迅速及有效地解决光刻问题，同时提供最值得参考的光刻胶特征参数。我深信LTJ的RDA分析仪绝对能够对中国的半导体行业作出贡献。

谢谢！


Chris A. Mack


背景介绍
Chris Mack 美国德州奥斯丁大学（UNIVERSITY OF TEXAS AT AUSTIN）化学工程系博士， 曾在美国国家安全局 NATIONAL SECURITY AGENCY（NSA） 的光学蚀刻研究所工作，在SEMATECH研究对DUV 光蚀刻有超卓的贡献，及后出任FINLE主席及首席技术主任，后来KLA Tencor买了FINLE， 他更当上了KLA的副主席，上任5年后他再执教鞭兼任企业专家顾问。 Chris是 SPIE 和 IEEE 的资深成员。 另最为人知的是Chris是PROLITH TOOLKIT （TM）光蚀刻模拟软件的发明人 。