ITO 导电薄膜用(卷对卷式) 结晶化退火炉
通过连续处理的方式进行 ITO 导电膜的结晶化工艺的设备。
用途
- ITO 导电膜的结晶化
- 低电阻化, 高透过率, 寸法的安定性
设备组成:
特点:
- TFilm 加热时的温度分布(±3℃以内)
- 通过独自开发的远红外线 Heater 达到
- 防止损伤 Film 的炉内机构的确立
- ITO 退火设备专用炉内搬送用履带
- 超低张力搬送用放卷收卷特殊搬送构造的确立
- 可对应双面 ITO Film 的放卷收卷特殊搬送构造
| 处理物 Product | 单面ITO Film,双面ITO Film Single-sided ITO film, Double-sided |
| Film 宽幅 Film Width | ～ 1700mm |
| Film 厚度 Film Thickness | 50 ～ 250μｍ |
| 处理速度 Speed | 0.5 ～ 2.5m/min可变 0.5 ‐ 2.5m/min Variable |
| 处理温度 Temperature | 常温 ～ MAX200℃ R.T. ‐ MAX200℃ |
采用远红外线陶瓷加热器:
