第23届 中国国际光电博览会（CIOE）2021刚于2021年9月16-18日在深圳国际会展中心（广东省深圳市宝安区福海街道展城路1号）顺利完满举行

利满科技今次参展CIOE在 2A010 和2A011号展位，主要是介产品有：

1.）日本Litho Tech Japan (LTJ) 的光刻胶顕影分析仪器RDA(Photoresist Development Analysis Instrument)。RDA分析仪器不祇限用于研发及产，而且还对应光刻胶的质量管理、优化光刻胶使用工艺条件、对应客户投诉等，应用广泛及Eth Scanner #LT-Escan-1500 系统 和 3和1旋涂、烘烤、显影系统#Dual-1000。

2.）德国GenISys 公司LAB 光学光刻仿真软件，只要输入相关数据后可作光刻图型仿真，效果比美繁复的现实工艺，省人力物力/时间和金钱, SEM图像自动测量分析、报告生成 软件-ProSEM , 精准/测量结果的一致性、没有人为疏忽或避免主观判断的介入等影响和争议.

3.）美国DisChem 公司的光刻化学品 – SurPass光刻胶用增粘剂(Adhesion Promoter) 及DisCharge 电子束/SEM测量的除电荷积聚剂(Anti Charging Agent 导电胶).

4.）奥地利 Profactor 公司 (纳米压印模具脱模剂)#BGL-GZ-83 是一种快速、简易涂在模具上的脱模剂, 已广受客户应用在复制微/纳 米器件上。

最简易应用的纳米压印模具脱模剂#BGL-GZ-83 : 在复制模具/压印时, 关建步骤, 就是可否脱模成功。如要避免粘模, 就要尽量减少模具的表面张力、摩擦等等。

（Profactor公司也有纳米压印胶来配套应用的增粘剂#HMNP-12可供 选择。）

5.）德国Micro Resist Technology (MRT) 优质的正、负光刻胶,有电子束(E-Beam ) 光刻胶、剥离胶 (Lift off Resist) 、灰阶(Greyscale) 及激光直写(Direct Write Laser) 和 NIL纳米压印胶， 压印膜具（Stamp胶）等等 多元化光刻胶。

6.) 日本NANO SYSTEM SOLUTIONS（NSS）DL-1000 无掩模激光直写设备虽然疫情有所影响，是次展览会尚算顺利成功，场内人流还是不少，厂商、客户留览过本司展位，对展出的产品、资料等也感兴趣、并进行查询互动交流。