g & i 线光刻胶，或更高端的 KrF & ArF 的开发和生 产，今后就在扎实的数据和模拟图象中向前猛进！

1. 我们一直兴奋地等待，终于在2月中，华东一家具领导地位的光刻胶生产厂商启动了日本 LTJ 的 UVES-2000 曝光机和 RDA 光刻胶显影分析仪，正式使用美、日世界级光刻胶生产商一致采用的LTJ仪器。

可以肯定的是，客户在理解/利用光刻胶曝光及显影的特征数据，以至缩短研发新产品所需时间都会有非常大的改善。

另外，我们还提供了一次现场讲解/试用德国Genisys公司的LAB模拟图形移软件。

从今天起我们这客户可以掌握光刻胶的显影特征数据，利用它们解读光刻胶曝光和显影的奥秘，模拟的功能是以百倍来缩短研发时间，将模拟结果反复比对前工序所得数据作有效调整，还有替客户做筛选工作，解读预知光刻胶的种种成型现象尤为有效。