Semicon China 2016 展览会刚于2016年3月15-17日在上海浦东新国际博览中心(SNIEC) N1-N5馆举行，分别设有 IC制造专区、LED及蓝宝石专区、TSV专区、半导体材料专区、MEMS专区及二手设备应用及解决方案专区。

利满洋行今次参展在 N2场馆的2521号展位，主要是介绍 LTJ的光刻胶顕影分析仪 (Photoresist Development Analysis Instrument) RDA。RDA不祇限用于研发及生产，而且还对应光刻胶的质量管理、优化光刻胶使用工艺条件、对应客户投诉等，应用广泛。与 Stepper / Scanner 相比，价格优惠，成本低，备受电子设备厂家的信赖，并且具备很优秀的数据再现性。鉴于这些优点，目前几乎所有日、韩、美的光刻胶厂家，树脂、感光材等原材料生产厂家等都在使用该装置，所以我们确信对于新加入光刻胶行业的生产厂家来说，是必备的装置，同时我司代理德国 GenISys LAB 仿真软件，获得RDA数据后可作仿真图型，效果比美繁复的现实工艺，省时间和金钱。

是次展览会相当成功，场内人流不绝，众多厂商遛览过本司展位，对RDA甚有兴趣，不断查询。