DisChem Inc. 继续授权利满作为在中国大陆及香港特别行政区唯一总代理。
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使用 LTJ 的 EUV 无图像开放式曝光器(EUVES-9000)、EUV 胶显影溶解分析仪、RDA-Qz3 分析 EUV 胶曝光膨胀现象、Outgassing 排气量度器,以及仿真软件模拟成型效果。LTJ 提供整套供研发 EUV 光刻技术的设备。
Figure 1: Resist evaluation methods (real and virtual)
Figure 2: EUVES-9000 exterior view
Figure 3: Exterior view of the ARM-800 Advanced Rate Monitor
Figure 4: RDA-Qz3 exterior view
Figure 5: Result of simulation for a pattern size of 22-11nm