花畑 誠(Makoto Hanabata, ph.D.)
光刻专家

中文


Litho Tech Japan Corporation 产 RDA800的推荐信

2015.7.9 富山県立大学/神奈川大学・客座教授

花畑 誠(Makoto Hanabata, ph.D.)



1. 主旨

制造半导体,显示器,MEMS等电子组件的材料,特别是光刻胶,防反射膜的研究开发,制造,品质管理,制造设备等时,强力推荐Litho Tech Japan Corporation制造的RDA800装置。

2. 我与该装置的 关系

我在 住友化学(株)、(株)KRI、日产化学工业(株)等企业,从事光刻胶的研发,企业化,生产销售 共38年。特别是在住友化学(株)期间使i线光刻胶获得60%的份额;在日产化学工业(株)期间,使防反射膜获得70%的份额(都是世界市场份额)。目前 还是两家公司的主力产品,备受客户青睐。在研发这些产品中RDA装置起了很大的作用,对我来说真是不可缺少的必备装置。

3. RDA的特长

RDA的特长可以列举以下:
1. 实际上制造电子设备是所需的曝光装置价格很贵,但是有RDA就可以测定光刻胶的各种性能,而且充分发挥曝光装置的功能。
2. RDA不只限用于研发,而且还对应光刻胶的品质管理,优化光刻胶使用工艺条件,对应客户投诉等,应用广泛。
3. 安装该装置占地面积小,维护方便,操作人员可以在短时间内熟练掌握操作技术。
4. 与曝光设备相比,价格优惠,成本低。
5. 备受电子设备厂家的信赖,并且具备很优秀的数据再现性。
6. LTJ公司的维修,售后服务都很到位,并健全了对海外客户的服务体制


鉴于以上优点,目前几乎所有的光刻胶厂家, 树脂,感光材等原材料生产厂家,电子设备厂家等都在使用该装置。
我确信对于新加入光刻胶行业的生产厂家来说,是必备的装置。


以上

花畑 誠 简历
1976年 大阪大学大学院工学研究科毕业
就职于住友化学(株)从事半导体用光刻胶的开发
1992年 获得大阪大学工学博士
1994年 近畿化学協会授予「化学技術奖」
1997年 转到(株)KRI公司 从事委托研发项目
2006年 转到日産化学工業(株) 从事防反射膜,感光性有机无机杂化材料的开发
2014年起 就任富山県立大学、神奈川大学客座教授 至今



日文


リソテックジャパン(株)製 RDA800の推薦状
2015.7.9 富山県立大学/神奈川大学・客員教授 花畑 誠


1. 主旨


半導体、ディスプレイ、MEMS等のデバイス製造用材料、特にレジスト、反射防止膜の研究開発・製造・品質管理・デバイス製造用にリソテックジャパン株式会社製 RDA800を導入することを強くお勧めします。


2. 同装置との関わり


私は、住友化学(株)、(株)KRI、日産化学工業(株)で合計38年間、レジスト材料の研究開発、企業化、製造販売に従事してきました。特に住友化学 (株)ではi線レジストで60%、日産化学工業(株)では反射防止膜で70%(いずれも世界シェア)の獲得に成功し、現在でも両社の主力製品として顧客の 高い評価を得ています。 これらの研究開発に大活躍したのはRDAで、必須の装置でした。


3. RDAの特長


RDAの特長を列記すると下記となります。
1. 実際のデバイス製造に用いる高価な露光装置(ステッパーと呼ばれる)が無くてもレジストの各種性能を評価でき、ステッパーとの対応が十分取れる。
2. 研究開発のみならず、レジストの品質管理、レジスト使用プロセス条件の最適化、顧客対応、トラブルシューティングなどに幅広く対応できる。
3. 設置場所を取らず、メンテナンスも極めて簡単で、作業者の熟練までに多くの時間を要しない。
4. ステッパーに比べて非常に安価で、大幅なコストダウンが図れる。
5. デバイスメーカーの信頼も厚く、データの再現性にも優れる。
6. リソテックジャパン株式会社のメンテナンス、アフターサービスも手厚く、国内外でのフォロウ体制も十分である。



これらの点から、現在ではほとんどのレジストメーカー、樹脂、感光材等の原料メーカー、デバイス製造メーカーが同装置を導入しています。
特に、新たにレジスト材料分野に参入しようとするメーカーにとって、導入が必須の装置であると確信しています。


以上


花畑 誠
1976年 大阪大学大学院工学研究科修了
住友化学(株)入社 半導体用レジストの開発に従事
1992年 大阪大学より博士(工学)取得
1994年 近畿化学協会より「化学技術賞」受賞
1997年 (株)KRI入社 受託研究に従事
2006年 日産化学工業(株)入社 反射防止膜、感光性有機無機ハイブリッド材料の開発に従事
2014年 富山県立大学、神奈川大学客員教授に就任、現在に至る