• Chinese - China
  • English - Hong Kong
利满科技首页 关于我们 产品 技术顾问及转移服务 新闻与活动 专家论述 联系我们
宗旨 可持续发展 合作项目
光刻胶 / 纳米加工工具及材料
纳米压印 UV 胶 / 光刻胶 / 相关化学品
Micro Resist Technology GmbH PROFACTOR GmbH
光刻化学品(增粘剂/抗电荷剂)
DisChem - Chemistry for Advanced Lithography
DisChem
DisChem Inc. 继续授权利满作为在中国大陆及香港特别行政区唯一总代理。
看更多
半导体仪器、设备及软件
无掩模激光直写 (灰阶 3D)
Nano System Solutions
LAB 光学光刻仿真软件
GenISys
LAB 仿真软件详细技朮介绍
GenISys
SEM 图像分析测量软件(ProSEM)
GenISys
光刻胶產学研、设备及軟件
利滿在过去的十年向光刻胶业提供世界顶尖的设备及丶软件,其中更包括原材料如树脂及感光化合物等研发所必需的工具。
欲知详情,请联系我们。
市场讯息 科技讯息 利满科技讯息 利满科技活动

虚拟光刻 (Virtual Lithography)

RDA 光刻胶显影分析仪 (Photoresist Development Analysis Instrument)

测量及分析光刻胶排气 (PR Outgas Measusing & Analysis)

曝光系統 (Exposure System)

PAGA-100 光至产酸剂去保护团反应分析仪 (PAGA-100 PAG Deprotection Reaction Analyzer)

树脂品质检定 (Resin Quality Inspection)

3合1 涂布/烘烤/显影 光刻胶小型实驗室 (3 in 1 Spincoat/Baking/Developing Robot unit. for Photorestist R&D)

半自动均胶及烘烤设备 (Semi-automated Spin Coatet & Bake Plate System)

视频

专家论述

视频

Video Thumbnail
RDA 光刻胶显影溶解率测量仪操作过程
Video Thumbnail
光刻胶特征分析揭秘
首页 / 利满科技首页 / 关于我们 / 新闻与活动 / 专家论述 / 联系我们
© Copyright 2025 Raymondnco.com All rights reserved.