一、简介

LTJ 新型曝光系统 VUVES-4700 & 4700i 配备 Energetiq Inc. 的 LDLS 紫外灯，专供光刻胶研发工程使用，是评估和测试 193nm 和 248nm 曝光工艺不可或缺的设备。

二、系统配置及功能

(1) 光源

激光驱动光源（LDLS）

(2) 光学

VUVES-4700/4700i 具有可更换的光学单元以改变曝光波长, 更换步骤轻松快速。光学系统中，引入了四个分色镜、一个积分器和一个准直透镜。它以均匀的强度将单色光引入晶圆。

(3) 晶圆曝光单元

最多 25 个不同剂量的曝光区域。
以 N2 气体吹扫光路，抑制氧气对光的吸收和臭氧的产生。
兼容基板：4 - 8“硅片
曝光波长：193nm / 248nm
曝光面积：5x5mm2
最大曝光值：500 mJ/cm2
最小曝光单位：0.1 mJ/cm2
曝光均匀度：10% ( 4 x 4 mm2 区域内）

(4) 测量和剂量控制工具

自动时控快门开/关
曝光能量自动控制软件
功率计（NOVA-Ⅱ）和传感器（PD-300UV-193）Ophir Optronics

(5) 透光率测量功能

通过将光照射到施加在直径为 25mm 的石英基板上的光刻胶样品上，系统测量透光率随时间的变化。
透光率测量系统配置
[1] 原位透光率测量软件
[2] 附带 Dill ABC 参数计算软件

(6) 高精度冷却器

SMC Thermo-con HEC002-A5

(7) ArF 193nm 浸没式曝光功能

可用于 ArF 浸没式曝光。
LTJ 特制的浸没式曝光舱可以模拟特殊的浸没式曝光环境及条件。（如图 1）